在專利申請(qǐng)過程中，申請(qǐng)人除了要有關(guān)鍵的技術(shù)，也要對(duì)國(guó)家專利審查局所接收的申請(qǐng)文本進(jìn)行合理布局，申請(qǐng)文本對(duì)專利的授權(quán)同樣起著至關(guān)重要的作用。

眾所周知，權(quán)利要求書把握著專利技術(shù)的命脈，而說明書中實(shí)施例和對(duì)比例往往是打通最終授權(quán)通道的關(guān)鍵開關(guān)。

接下來，小編以一篇關(guān)于“組合物”的專利為例，詳細(xì)講解如何選擇實(shí)施例和對(duì)比例。

專利名稱：一種聚苯硫醚復(fù)配涂料及其制備方法

該專利的組合物為聚苯硫醚復(fù)配涂料，按照重量百分比包括97-99.5%聚苯硫醚和0.5-3%納米填料組成。

所述聚苯硫醚具有多孔結(jié)構(gòu)，所述多孔結(jié)構(gòu)中，小于2nm的微孔貢獻(xiàn)占比10-30%。所述聚苯硫醚的球形率為60-100%。所述納米填料選自納米二氧化硅、納米氧化鋁、納米二氧化鈦中的至少一種。

01

首先，我們需要明確，本申請(qǐng)的關(guān)鍵技術(shù)、解決的技術(shù)問題以及技術(shù)效果是什么？

從組合物的成分來看，包括2種成分：聚苯硫醚和納米填料。

該專利的關(guān)鍵技術(shù)體現(xiàn)在：“通過低含量特定種類和粒徑納米填料、多孔聚苯硫醚的組合，解決現(xiàn)有技術(shù)存在的PPS（聚苯硫醚）涂層缺陷的問題，提高組合物產(chǎn)品的絕緣性能和介電性能”。

也就是說，該項(xiàng)專利關(guān)鍵技術(shù)的重點(diǎn)應(yīng)突出在聚苯硫醚和納米填料的配比、納米材料的性質(zhì)、聚苯硫醚的多孔結(jié)構(gòu)三部分的內(nèi)容。

02

然后，依據(jù)關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行實(shí)施例的選擇，對(duì)技術(shù)進(jìn)行全面的保護(hù)：

01聚苯硫醚和納米填料的配比

專利撰寫中，對(duì)實(shí)施例的數(shù)量沒有硬性的要求，如果一個(gè)實(shí)施例就可以將技術(shù)全部描述清楚，僅一個(gè)實(shí)施例就可以。

但是，如果想寫一個(gè)更高質(zhì)量的專利文件，其1個(gè)實(shí)施例往往不能賦予專利足夠的穩(wěn)定性，因此，一般我們會(huì)列出多個(gè)實(shí)施例。

一般情況下，在撰寫“組合物”類型的發(fā)明專利時(shí)，對(duì)于一個(gè)數(shù)值范圍，往往至少需要列出3個(gè)實(shí)施例，分別對(duì)應(yīng)組合物組分配比的兩個(gè)端點(diǎn)值，以及中間值。

該組合物成分配比為：97-99.5%聚苯硫醚和0.5-3%納米填料。

因此，在撰寫實(shí)施例時(shí)，需要至少?gòu)募夹g(shù)材料中選出至少以下三個(gè)具體實(shí)施方式分別保護(hù)配比技術(shù)中端點(diǎn)值和中點(diǎn)值，這樣就可以使配比得到相對(duì)完整的保護(hù)：

如果，對(duì)于某一組合物，其配比范圍跨度較大，但帶來的技術(shù)效果相近，可以對(duì)保護(hù)范圍內(nèi)的配比多選取幾組數(shù)據(jù)進(jìn)行實(shí)施例的撰寫。

但小編強(qiáng)調(diào)，端點(diǎn)值和中間值的實(shí)施例最好優(yōu)先體現(xiàn)出來。

02 納米材料的性質(zhì)

技術(shù)實(shí)驗(yàn)資料表示，不同的納米材料種類、粒徑大小對(duì)技術(shù)效果具有顯著的影響：納米二氧化硅、納米氧化鋁、納米二氧化鈦（D50粒徑為5-50nm，D90粒徑為10-150nm）可以帶來進(jìn)步的技術(shù)效果。

因此，在實(shí)施例中，需要將上述納米材料種類盡可能盡數(shù)列舉本實(shí)施例中。

從上述實(shí)施例1-3中可以看出，涵蓋了3種納米材料，且D50和D90數(shù)值在保護(hù)范圍內(nèi)，且數(shù)值不同，可以全面的對(duì)本申請(qǐng)的納米材料進(jìn)行保護(hù)。

03聚苯硫醚的多孔結(jié)構(gòu)

技術(shù)實(shí)驗(yàn)資料表示，小于2nm的微孔貢獻(xiàn)占比10-30%，球形率為60-100%的多孔聚苯硫醚可以實(shí)現(xiàn)較優(yōu)的技術(shù)效果。因此，在撰寫實(shí)施例時(shí)，穿插選擇上述特征。根據(jù)上述“端點(diǎn)值、中間值”的原則，至少要選出不同微孔貢獻(xiàn)占比（10%、20%、30%）、不同球形率（75%、80%、85%）的多孔聚苯硫醚：

小編提醒，在專利申請(qǐng)文本的撰寫過程中，根據(jù)實(shí)際技術(shù)和試驗(yàn)效果，也可以著重給出重點(diǎn)需要保護(hù)的范圍數(shù)值。

上述“端點(diǎn)值和中間值”選取可根據(jù)技術(shù)實(shí)際情況進(jìn)行選取。

但是，實(shí)施例中盡量不要僅使用一個(gè)范圍，容易出現(xiàn)保護(hù)范圍過小、保護(hù)內(nèi)容過窄的問題，進(jìn)而影響實(shí)際技術(shù)的全面體現(xiàn)，切勿因撰寫的不足而錯(cuò)過專利的全面保護(hù)。

03

然后，依據(jù)關(guān)鍵技術(shù)、與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別、解決的技術(shù)問題以及技術(shù)效果進(jìn)行對(duì)比例的選擇。

01 聚苯硫醚和納米填料的配比

至少選擇1個(gè)效果不理想的實(shí)驗(yàn)方案，其配比不滿足“97-99.5%聚苯硫醚和0.5-3%納米填料”這一限定。

例如，在該專利中，選擇不加納米填料、和95%聚苯硫醚+5%納米填料作為對(duì)比例：

（1）不加納米填料：

（2）95%聚苯硫醚和5%納米填料：

02納米材料的性質(zhì)

至少選擇1個(gè)效果不理想的實(shí)驗(yàn)方案，其使用的納米材料種類或粒徑不滿足（D50粒徑為5-50nm，D90粒徑為10-150nm）及種類的限定：

（1）納米材料種類可以選擇非本申請(qǐng)的納米硫酸鋇：

（2）納米材料的粒徑大小不在本申請(qǐng)的范圍（D50粒徑為5-50nm，D90粒徑為10-150nm）內(nèi)：

03聚苯硫醚的多孔結(jié)構(gòu)

至少選擇1個(gè)效果不理想的實(shí)驗(yàn)方案，不滿足微孔貢獻(xiàn)占比或球形率或多孔結(jié)構(gòu)的限定：

（1）聚苯硫醚為無孔結(jié)構(gòu)：

（2）聚苯硫醚的球形率不在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍（60-100%）內(nèi)

（3）聚苯硫醚的微孔占比不在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍（10-30%）內(nèi)

04

最后，對(duì)上述所設(shè)置的實(shí)施例和對(duì)比例的技術(shù)效果進(jìn)行對(duì)比。

從技術(shù)效果中進(jìn)一步的證明本申請(qǐng)所帶來的技術(shù)效果是顯著進(jìn)步的，只有在本申請(qǐng)所述的技術(shù)方案下，才能得到同時(shí)降低涂層介電常數(shù)，提高擊穿強(qiáng)度、耐腐蝕性能、絕緣性能和附著力，減少針孔縮孔數(shù)量的聚苯硫醚涂料。

本申請(qǐng)的技術(shù)方案相比于非本申請(qǐng)的技術(shù)方案，是非顯而易見的。

實(shí)施例是指專利申請(qǐng)中所描述的發(fā)明的具體實(shí)現(xiàn)方式，合理的選擇組合物中的參數(shù)進(jìn)行實(shí)施例的撰寫，可以使本申請(qǐng)的技術(shù)受到最大范圍的保護(hù)。

相反，若實(shí)施例的選擇不合理，不僅僅會(huì)影響技術(shù)的全面保護(hù)，還會(huì)導(dǎo)致專利授權(quán)困難。

對(duì)比例的選擇應(yīng)描述本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)的優(yōu)勢(shì)和區(qū)別。通過實(shí)施例和對(duì)比例的合理選擇，突出本發(fā)明的關(guān)鍵技術(shù)所帶來的優(yōu)勢(shì)和顯著的特點(diǎn)。

因此，小編認(rèn)為，即使我們有海量的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，但是：

（1）不需要將前期研究?jī)?nèi)容全部展現(xiàn)在專利中，而是根據(jù)技術(shù)分析，有條理的、精準(zhǔn)的展現(xiàn)必要的實(shí)施例。

（2）適當(dāng)放棄部分試驗(yàn)方案的保護(hù)，盡管作為申請(qǐng)人希望將所有的實(shí)驗(yàn)方法都以專利保護(hù)起來，但是對(duì)于效果一般的方案，將其轉(zhuǎn)化為“對(duì)比例”，反而更有利于重點(diǎn)技術(shù)方案的授權(quán)。通過對(duì)上述關(guān)于對(duì)實(shí)驗(yàn)技術(shù)資料的詳細(xì)全面分析，小編講解了如何從技術(shù)資料中選擇出恰當(dāng)?shù)膶?shí)施例和對(duì)比例，確保專利順利授權(quán)。

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