專利服務(wù)
審查指南中對于發(fā)明創(chuàng)造性答復(fù)的規(guī)定，需要按照三步法進行答復(fù)：
（1）確定最接近的現(xiàn)有技術(shù)。
（2）確定發(fā)明的區(qū)別特征和發(fā)明實際解決的技術(shù)問題。
（3）判斷要求保護的發(fā)明對本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說是否顯而易見。
但是代理人在答復(fù)階段對于大篇幅的申請文件以及多個對比文件，需要通篇理解，而對于區(qū)別特征的理解，難免會出現(xiàn)偏差，導(dǎo)致區(qū)別特征查找不夠精準(zhǔn)，無法說服審查員，導(dǎo)致需要進行多通審查，甚至導(dǎo)致被駁回。
所以，如何精準(zhǔn)找到區(qū)別特征，是創(chuàng)造性答復(fù)成功的重中之重！
下面通過一個案例，說明如何精準(zhǔn)找到區(qū)別特征。
一
案例詳情
本申請：一種載玻片缺陷檢測分揀系統(tǒng)
如本申請圖1、圖2、圖3所示，包括機架模組1、入料傳送模組2、光電檢測模組3、收料模組4、踢廢模組5以及控制平臺；
線掃相機305由驅(qū)動層內(nèi)的線掃相機驅(qū)動模塊控制。所述光源控制驅(qū)動模塊310控制三個線光源依次點亮和熄滅。
本申請圖2
本申請圖3
對比文件：用于在線檢測透明基板缺陷的設(shè)備
如對比文件附圖1、附圖2所示，第一亮光源模組210、第一暗光源模組220設(shè)置在透明基板上方，第一亮光源模組210和第一成像模塊400構(gòu)成明場反射通道，第二亮光源模組310、第二暗光源模組320設(shè)置在透明基板下方，第二亮光源模組310與第二成像模塊500構(gòu)成明場反射通道，明場反射通道用于檢測透明基板中的結(jié)石、氣泡；
第一暗光源模組220和第一成像模塊400構(gòu)成暗場反射通道，第二暗光源模組320與第二成像模塊500構(gòu)成暗場反射通道。暗場反射通道用于檢測透明基板的劃痕、臟污、砸傷等缺陷；
第一亮光源模組210和第一暗光源模組220是擇一曝光的；第二亮光源模組310和第二暗光源模組320也是擇一曝光的。
對比文件附圖2
二
對比分析
對比文件中，第一亮光源模組210和第一暗光源模組220是擇一曝光的，并不是依次曝光，所以如果第一亮光源模組210相當(dāng)于本申請中的第一線光源或第二線光源，第二暗光源模組就不等于本申請中的第二線光源或第一線光源，反之也成立；
所以僅存在第一成像模塊400時，需要進行兩次檢測才能實現(xiàn)所有缺陷的檢測，并不能實現(xiàn)單次檢測就能完成所有缺陷檢測的效果，不能實現(xiàn)在低成本的同時，檢測效率的提高。
三
區(qū)別特征
根據(jù)上述對比分析，可以得到區(qū)別特征為：
所述光源為三個不同角度設(shè)置的線光源，在所述入料傳送模組的上下兩側(cè)該線光源分別分布有兩個和一個所述線光源；
所述線光源射出的光路與所述被檢產(chǎn)品表面法線夾角范圍為0?60°，該線光源的光源長度大于所述入料傳送模組的寬度；
所述線光源由所述驅(qū)動層內(nèi)的光源控制驅(qū)動模塊控制；
所述線掃相機由所述驅(qū)動層內(nèi)的線掃相機驅(qū)動模塊控制；
所述光源控制驅(qū)動模塊控制三個線光源依次點亮和熄滅。
四
小結(jié)
最后，在尋找區(qū)別特征的過程中，技術(shù)效果、顯而易見性也都會在分析過程中進行考慮，所以在精確找到區(qū)別特征后，技術(shù)效果，顯而易見性也就會更加容易陳述，因此，精準(zhǔn)找到區(qū)別特征是答復(fù)審查意見中非常重要的一步！
微信掃一掃
關(guān)注該公眾號
